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エアルフェルド 「ラボ用マイクロリアクタ MMRSシリーズ モデュラー型マイクロ化学プラント」

MMRSは、今日における最先端のR&D技術です。

高い柔軟性と効率性を有しており、マイクロ反応技術の応用範囲を飛躍的に拡大させることができます。MMRSの利用により、新規合成ルートの開発や化学物質の生産性向上、既存プロセスの改善等、様々な目標を柔軟かつ安全に、そして低コストで達成するための研究開発基盤を得ることができます。


MMRSの一般的な運転可能範囲は、温度:-20 ℃~200 ℃、圧力:100 bar以下、低粘度溶媒で流速:0.05~25 L/h、となっており、均一系だけでなく、不均一系の反応(固-液、気-液反応等)にも対応可能です。各モジュールの材質は、ステンレス鋼やハステロイ(接液部)等から選択することが出来ます。


多種多様なモジュールが既製品としてラインナップされているため、容易にプロセスの適用範囲を拡張することが可能です(表1)。生産用としても使用可能な通常流速1000 L/h以上のスタンドアローンモジュールや、超高・低温反応に対応する、特別なリアクターやモジュールなども既製品としてラインナップされています。

DKSH Japan TEC Ehrfeld エアルフェルド マイクロ反応デバイス

モジュールの固定

主要なモジュールをベースプレート上に並べ、モジュール間にシールプレートを挿入し、両端からクランプデバイスで挟むだけで、最大100barまで耐える密閉流路を構築することが出来ます。このシンプルかつ簡便なシステムにより、反応経路の変更等を自由自在に行うことが可能となります。

MMRS主要モジュール一覧

カテゴリー

モジュール

特徴

ミキサー

コーム型

標準ミキサは温度センサー内蔵型も可


スリットプレート型

混合プレートおよびアパチャープレートの交換により
スループットおよび混合比の変更が可能。
温度センサ内蔵型も可(低スループットタイプ LH2,
高スループットタイプ LH25)


カスケード型

高粘性溶液や不均一系に最適


バルブアシスト型

マイクロあるいはナノ粒子形成反応または晶析用


マイクロジェット型

マイクロあるいはナノ粒子形成反応または晶析用

リアクター

キャピラリー型

滞留時間制御用、温度センサー内蔵、ヒーター式温調


メアンダ型

滞留時間制御用(~60分)、熱媒式温調


カートリッジ型

固体触媒を用いた不均一反応用、温度センサー内蔵、
ヒーター式温調


クライオ型

極低温・高温用センサー(-80~100℃)、温度センサー内蔵、熱媒体式温調


光反応用

光誘導反応対応、励起波長:365, 385, 395, 405, 420,
470, 505, 525, 630, 660 nm

熱交換器

クロスフロー型、カウンターフロー型

プレート積層タイプ、熱媒式温調、温度センサ内蔵型も可


コアキシャル型

二重円筒タイプ、熱媒式温調、高粘度液や不均一系に対応


ヒータ式

高加熱効率、ヒーター式温調

センサー/
アクチュエータ

温度計測用

Pt100センサー


圧力計測用/計測制御用

ピエゾ型センサー、電磁バルブ制御


流量計測用/計測制御用

サーマル式センサー、電磁バルブ制御


粘度(密度)計測用

粘度:0.3~200cp, 密:0~2000kg/m3


pH計測用

長期安定性試験クリア, 他のガラス電極センサー適合


電気伝導度計測用

~200.0µS/cm, ~2000µS/cm, ~20.00mS/cm,
~200.0mS/cm


光学フローセル

UV/VIS/NIRの波長帯における分光測定用(吸光度、
蛍光光度、光散乱、濁度など)


オーバーフロー安全バルブ

作動圧力範囲:3.5~25bar, 25~50bar, 50~100bar


2方/3方バルブ

手動切替式、切替時のバックプレッシャー無し

その他

インレット、アウトレット

プロセス/熱媒体の出入口用、サイズ:1/4''、1/8''、
1/16''、インプット用はフィルター付きタイプ有


接続用

配列の都合上、隣接不可なモジュール同士の中継用、
左90度/右90度/ストレート(180度)


断熱用

モジュール間における熱損失の軽減用

プロセスコントロールシステム


MMRSには、自動化ユニットがオプションで装備されており、プロセス制御やデータ取得をPC上で行うことが可能です。


自動化ユニットは、専用のインターフェース(ハードウェア)とソフトウェアから構成されています。


ソフトウェア上では、各モジュールやデバイスをドラッグ&ドロップで思いのままに配置することができます。そのため、モジュールの配置換えなどのプロセス変更を短時間で簡単に反映させることが可能です。

DKSH Japan TEC Ehrfeld エアルフェルド マイクロ反応デバイス MMRS ハードウェア Lab-box

ハードウェア
Lab-box

DKSH Japan TEC Ehrfeld エアルフェルド マイクロ反応デバイス ソフトウェア LabVision

ソフトウェア
LabVision

 低スループット MMRSシリーズ 基本セット
DKSH Japan TEC Ehrfeld エアルフェルド マイクロ反応デバイス MMRS ベーシックセット

ベーシックセット

ベーシックセット
構成
  • 一段均一反応用モジュールセット

  • 2×ラボ用HPLCポンプ

  • 1×恒温水槽

  • PCコントロール(オプション)

アプリケーション
  • エステル交換反応

  • C-Cカップリング

  • アルキル化反応

  • 均一プロセス

プロセスパラメータ
  • 流量:1 ~ 10 mL/min

  • 温度:-20 ℃ ~ 150 ℃

  • 圧力:0 ~ 20 bar

DKSH Japan TEC Ehrfeld エアルフェルド マイクロ反応デバイス MMRS フォトリアクターセット

フォトリアクターセット

フォトリアクターセット
構成
  • 光反応モジュールセット

  • 2×ラボ用HPLCポンプ

  • 1×恒温水槽

  • 1×光光源用パワーサプライ

  • 1×温度表示器

  • PCコントロール(オプション)

アプリケーション
  • 光異性化

  • 光二量化反応

  • 光開裂反応

  • 光誘起再配列反応

  • 光酸化還元反応

  • 光増感反応

プロセスパラメータ
  • 層厚:20 ~ 100 um

  • 流速:1 ~ 10 mL/min

  • 温度:-20 ~ 150 ℃

  • 圧力:0 ~ 20 bar

  • LED光源:365, 385, 395, 405, 420, 470, 505, 525, 630, 660 nm

DKSH Japan TEC Ehrfeld エアルフェルド マイクロ反応デバイス MMRS カートリッジリアクターセット

カートリッジリアクターセット

カートリッジリアクターセット
構成
  • 触媒反応モジュールセット

  • 2×ラボ用HPLC

  • 1×電気ヒータユニット

  • PCコントロール(オプション)

アプリケーション
  • パラジウム触媒を用いるC-Cカップリング

  • アルキル化反応

  • 置換反応

プロセスパラメータ
  • 流量:1 ~ 20 mL/min

  • 温度:-20 ℃ ~ 240 ℃

  • 圧力:0 ~ 100 bar

DKSH Japan TEC Ehrfeld エアルフェルド マイクロ反応デバイス MMRS 固定床リアクターセット

固定床リアクターセット

固定床リアクターセット
構成
  • 固定床リアクターセット

  • 2×ラボ用HPLCポンプ

  • 1×恒温水槽

  • 2×温度表示器

  • PCコントロール(オプション)

アプリケーション
  • パラジウム触媒を用いるC-Cカップリング

  • アルキル化反応

  • 水素添加反応

  • 置換反応

プロセスパラメータ
  • 流量:1 ~ 10 mL/min

  • 温度:-20 ℃ ~ 150 ℃

  • 圧力:0 ~ 20 bar

  • 化学
  • 医薬品
エアルフェルド社 (Ehrfeld)サプライヤー情報: エアルフェルド社 (Erhfeld) エアルフェルド社では微細加工技術、マイクロ流体工学、コンピュータシミュレーションを駆使した各種マイクロ反応デバイスやそれらの制御・計測用のマイクロセンサー及びデバイスの開発製造を行っています。これらの技術は現時アの化学プロセスのあり方を根底から変革できるポテンシャルを秘め、高効率、省エネ及び環境負荷低減を徹底的に追求し、グリーンケミストリーの一翼を担っています。
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