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Kanto Chemical - Post-CMP Cleaning Solutions

Aucun dommage chimique sur les métaux et matériaux diélectriques. Retrait de diverses contaminations de la surface de la plaquette (dépôts abrasifs, résidus organiques) pendant le nettoyage post-CMP.

Série CMP-M: pour impuretés et particules métalliques interagissant avec le Tungsten (W) et le cuivre (Cu).

Série CMP-B: pour résidus organiques, impuretés métalliques interagissant avec le Tungsten (W) et le cuivre (Cu).

  • Chimique
  • Electronique
  • Semiconducteurs, solaire et électronique
KANTO CHEMICAL CO. INC.La division chimie électronique de Kanto Chemical offre une gamme complète de produits chimiques pour les applications semi-conducteurs. Parmi ce portefeuille, Kanto Chemical propose des solutions pour le nettoyage Post-CMP, des éliminateurs de résidus Post-Ashing et des solutions Gold plating.
[Kanto Chemical, Electronic chemical, Post-CMP Cleaning Solutions]